Se 3-amino-5-mercapto-1,2 estas enspirita, 4-triazole, bonvolu movi la pacienton al freŝa aero; en kazo de haŭta kontakto, demetu la poluitajn vestaĵojn kaj lavu la haŭton ĝisfunde per sapa akvo kaj akvo. Se vi sentas vin malkomforta, serĉu kuracistan konsilon; se vi havas okulan klaran kontakton, apartigu la palpebrojn, lavu per fluanta akvo aŭ normala salo, kaj serĉu kuracistan konsilon tuj; se ingestite, gargaru tuj, ne provoku vomadon, kaj serĉu kuracistan konsilon tuj.

Ĝi kutimas prepari fotorezistan purigan solvon

En la komuna LED-procezo de fabrikado de semikonduktaĵoj, la masko de foto-rezisto formiĝas sur la surfaco de iuj materialoj, kaj la ŝablono estas transdonita post ekspozicio. Post akiro de la bezonata ŝablono, la resta foto-rezisto devas esti senigita antaŭ la sekva procezo. En ĉi tiu procezo necesas tute forigi la nenecesan fotoreziston sen korodi iun ajn substraton. Nuntempe fotoresista puriga solvo ĉefe konsistas el polusa organika solvilo, forta alkalo kaj / aŭ akvo, ktp. La fotorezisto sur la duonkondukta oblato povas esti forigita mergante la duonkonduktan peceton en la purigan likvaĵon aŭ lavante la duonkonduktan peceton kun la puriga likvaĵo. .

Nova speco de fotorezista puriga solvo estis disvolvita, kio estas neakva malalta akva akvaĵo. Ĝi enhavas: alkoholamino, 3-amino-5-merkapto-1,2,4-triazolo kaj kosolvento. Ĉi tiu speco de fotorezista puriga solvo povas esti uzata por forigi fotoreziston en LED kaj semikonduktaĵo. Samtempe ĝi ne atakas la substraton, kiel metala aluminio. Krome, la sistemo havas fortan akvan reziston kaj plilarĝigas sian operacian fenestron. Ĝi havas bonan aplikaĵon en la kampoj de purigado de LED kaj semikonduktaĵoj.